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2016中國（北京）國際靶材產(chǎn)品及鍍膜工業(yè)展覽會(huì)時(shí)間：2016年5月9-11日地點(diǎn)：北京·國家會(huì)議中心同期活動(dòng)：2016靶材應(yīng)用研討會(huì)2016真空鍍膜技術(shù)交流會(huì)■組織單位主辦單位：中國

濺射靶材的分類金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化

國內(nèi)濺射靶材發(fā)展與應(yīng)用20世紀(jì)90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。

靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽蟆２贿^在實(shí)際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”,8“發(fā)展到12”,而布線寬

磁控濺射鍍膜靶材：　　金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶

第一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則，該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進(jìn)行。

合金靶材的濺射原理：對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射

真空濺射靶材的信息介紹，幫助大家更好的了解靶材行業(yè)的知識。　　靶材技術(shù)指標(biāo)：純度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根據(jù)用戶要求調(diào)整Al2O3摻雜比(0-4)wt%]相對密度：d≥98%理論密度：ρ=5

目前全球各主要靶材制造商的總部，大多設(shè)立在美國、德國和日本。就美國而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商

(1)　density，這個(gè)是最主要的，好的靶密度至少達(dá)到97%以上，所以大家買回靶來以后可以根據(jù)重量體積來計(jì)算一下你們的靶的密度和理論塊體的密度的比例有多少，低于90%的退貨。　　(2)　開裂問題，套磁靶很容易開

未來ITO靶材發(fā)展大致有以下的趨勢：　　1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細(xì)化發(fā)展的趨向，以及它的驅(qū)動(dòng)程序不同，需要更小電阻率的透明導(dǎo)電膜。　　2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現(xiàn)在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時(shí)，

鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈最頂端產(chǎn)品新靶材含有與刀具及模具等的母材的密著性高、且潤滑性出色的鉬。因此可省去用于提高密著性的襯底用靶材，降低成本。一般情況下，高硬度覆膜

鉿，金屬Hf，原子序數(shù)72，原子量178.49，熔點(diǎn)高，與鋯共存。是一種帶光澤的銀灰色的過渡金屬。有金屬光澤;金屬鉿有兩種變體:α鉿為六方密堆積變體(1750℃)，其轉(zhuǎn)變溫度比鋯高。金屬鉿在高溫下有同素異形變體存在。具有塑性的金屬，當(dāng)有雜質(zhì)

一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)

一、背靶材料無氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是無氧銅，因?yàn)闊o氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機(jī)械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如

磁控濺射靶材的運(yùn)作過程很多人不不太清楚，對磁控濺射靶材的工作內(nèi)容也不了解，下面就為大家簡單的介紹一下。磁控濺射的基本原理是利用Ar一02混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換后，靶材表面的原子

靶材的作用很多，而且市場發(fā)展空間較大，它在很多領(lǐng)域都有很好的用途。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,　　提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都

靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜...鋁膜等。更換不同的靶

濺射靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近

靶材的應(yīng)用范圍廣闊，市場發(fā)展空間巨大，脫鈦劑結(jié)合PVD鍍膜的特點(diǎn)而生產(chǎn)的一種高效環(huán)保無毒退膜藥水。　脫鈦劑由于具有無毒﹑環(huán)保的特點(diǎn)，所以絕不傷害電鍍保護(hù)漆與基體，并迅速剝離IP涂層，起到了良好的分色效果。它主要是針對離子裝飾

如果靶材是磁性材料，磁力線被靶材屏蔽，磁力線難以穿透靶材在靶材表面上方形成磁場，磁控的作用將大大降低。因此，濺射磁性材料時(shí)，一方面要求磁控靶的磁場要強(qiáng)一些，另一方面靶材也要制備的薄一些，以便磁力線能穿過靶材，在靶面

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)?！　⌒畔⒋鎯Ξa(chǎn)業(yè)：隨著IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,世界對記錄介質(zhì)的需求

高純鋁濺射靶材行業(yè)的發(fā)展情況。隨著電子新材料行業(yè)的快速發(fā)展,以高純鋁為基礎(chǔ)的電子新材料產(chǎn)品(包括靶材)需求將保持高速增長。十一五期間，我國“國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(863計(jì)劃)新材料技術(shù)領(lǐng)域“大尺寸超高純鋁靶材的

濺射靶材磁控濺射原理：　　在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。　　在電場的作用下，Ar氣電離成正

靶材的市場廣闊，應(yīng)用范圍大，未來發(fā)展較大，為了幫助大家更多的了解靶材的性能，下面我們就為大家簡單的介紹一下靶材的主要性能要求，希望對大家有所幫助。　　純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡?

磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場和電場，濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場?！　≡陔妶龅?

ITO材料是一種n型半導(dǎo)體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導(dǎo)電漿料及ITO透明導(dǎo)電薄膜。其主要應(yīng)用分為：平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL