未來ITO靶材發(fā)展大致有以下的趨勢：

　　1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細(xì)化發(fā)展的趨向，以及它的驅(qū)動程序不同，需要更小電阻率的透明導(dǎo)電膜。

　　2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現(xiàn)在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時，有效濺射表面積會減少，濺射速度也會降低，靶材表面黑化趨勢加劇。高密度靶的表面變化少，可以得到低電阻膜。靶材密度與壽命也有關(guān)，高密度的靶材壽命較長，意味著可降低靶材成本。

　　3.尺寸大型化。隨著液晶模塊產(chǎn)品輕薄化和低價化趨勢的不斷發(fā)展，相應(yīng)的ITO玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢，因此ITO靶材單片尺寸大型化不可避免。

　　4.靶材本體一體化。如前所述，靶材將朝大面積發(fā)展，以往技術(shù)能力不足時，必須使用多片靶材拼焊成大面積，但由于接合處會造成鍍膜質(zhì)量下降，因此目前大多以一體成形為主，以提升鍍膜質(zhì)量與使用率。未來新世代LCD玻璃基板尺寸的加大，對靶材生產(chǎn)廠家是一項嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)。

　　5.使用高效率化。靶材使用率的提升，一直是設(shè)備商、使用者及靶材制造商共同努力的方向。目前靶材利用率可達(dá)40%，隨著液晶顯示器行業(yè)對材料成本要求的提高，提高ITO靶材的利用率也將是未來靶材研發(fā)的方向之一。