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北京普瑞新材于2017年3月14日參加了上海半導(dǎo)體展，在展會(huì)上與很多同行業(yè)公司達(dá)成了良好的合作意向，我們將繼續(xù)努力為客戶(hù)提供周到全面的各種金屬材料服務(wù)。
發(fā)布時(shí)間：2017-03-14 點(diǎn)擊次數(shù)：829
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未來(lái)ITO靶材發(fā)展大致有以下的趨勢(shì)： 1.降低電阻率。隨著LCD愈來(lái)愈精細(xì)化發(fā)展的趨向，以及它的驅(qū)動(dòng)程序不同，需要更小電阻率的透明導(dǎo)電膜?！ ?.高密度化。靶材密度的改善直接帶來(lái)的益處主要表現(xiàn)在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時(shí)，
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數(shù)：626
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靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜...鋁膜等。更換不同的靶
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數(shù)：303
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可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法?！ ≈绷鳛R射法要求靶材能夠?qū)碾x子轟擊過(guò)程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極，從而該方法只能濺射導(dǎo)體材料，不適于絕緣材料，因?yàn)檗Z擊絕緣靶材時(shí)表面的離子電荷無(wú)法中和，這將導(dǎo)致靶面電位升高
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數(shù)：474
