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北京普瑞新材科技有限公司歷經(jīng)十幾年的積累和沉淀，終于在2021年開工興建屬于自己的廠房。這些年我們經(jīng)歷了太多的不易，我們不忘初心，砥礪前行。最終從無到有，辦公樓、廠房拔地而起，2023年5月基建基本

熱烈慶祝北京普瑞新材科技有限公司成立十周年，為感謝新老員工對公司的辛勤付出，公司于6月18、19日兩天組織員工去黃花城水長城游玩并在長城腳下農(nóng)家院聚餐。普瑞新材全體員工深切認識到生產(chǎn)是

2016中國（北京）國際靶材產(chǎn)品及鍍膜工業(yè)展覽會時間：2016年5月9-11日地點：北京·國家會議中心同期活動：2016靶材應(yīng)用研討會2016真空鍍膜技術(shù)交流會■組織單位主辦單位：中國

ITO材料是一種n型半導(dǎo)體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導(dǎo)電漿料及ITO透明導(dǎo)電薄膜。其主要應(yīng)用分為：平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場?！　≡陔妶龅?

磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次

靶材的市場廣闊，應(yīng)用范圍大，未來發(fā)展較大，為了幫助大家更多的了解靶材的性能，下面我們就為大家簡單的介紹一下靶材的主要性能要求，希望對大家有所幫助?！　〖兌龋杭兌仁前胁牡闹饕阅苤笜酥?，因為靶材的純度對薄膜的性能影

濺射靶材磁控濺射原理：　　在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場?！　≡陔妶龅淖饔孟拢珹r氣電離成正

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)?！　⌒畔⒋鎯Ξa(chǎn)業(yè)：隨著IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,世界對記錄介質(zhì)的需求

如果靶材是磁性材料，磁力線被靶材屏蔽，磁力線難以穿透靶材在靶材表面上方形成磁場，磁控的作用將大大降低。因此，濺射磁性材料時，一方面要求磁控靶的磁場要強一些，另一方面靶材也要制備的薄一些，以便磁力線能穿過靶材，在靶面

靶材的應(yīng)用范圍廣闊，市場發(fā)展空間巨大，脫鈦劑結(jié)合PVD鍍膜的特點而生產(chǎn)的一種高效環(huán)保無毒退膜藥水?！∶撯亜┯捎诰哂袩o毒﹑環(huán)保的特點，所以絕不傷害電鍍保護漆與基體，并迅速剝離IP涂層，起到了良好的分色效果。它主要是針對離子裝飾

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近

濺射靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷

(1)　density，這個是最主要的，好的靶密度至少達到97%以上，所以大家買回靶來以后可以根據(jù)重量體積來計算一下你們的靶的密度和理論塊體的密度的比例有多少，低于90%的退貨?！　?2)　開裂問題，套磁靶很容易開

目前全球各主要靶材制造商的總部，大多設(shè)立在美國、德國和日本。就美國而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商

真空濺射靶材的信息介紹，幫助大家更好的了解靶材行業(yè)的知識?！　“胁募夹g(shù)指標：純度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根據(jù)用戶要求調(diào)整Al2O3摻雜比(0-4)wt%]相對密度：d≥98%理論密度：ρ=5

靶材的作用很多，而且市場發(fā)展空間較大，它在很多領(lǐng)域都有很好的用途。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,　　提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都

磁控濺射靶材的運作過程很多人不不太清楚，對磁控濺射靶材的工作內(nèi)容也不了解，下面就為大家簡單的介紹一下。磁控濺射的基本原理是利用Ar一02混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換后，靶材表面的原子

磁控濺射鍍膜靶材：　　金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶

靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”,8“發(fā)展到12”,而布線寬

國內(nèi)濺射靶材發(fā)展與應(yīng)用20世紀90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。

濺射靶材的分類金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化

一、背靶材料無氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如

一、濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標經(jīng)

合金靶材的濺射原理：對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射