1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,氧化釔靶材，Y2O3靶材等高純氧化物鍍膜材料。

　　2.氟化物：氟化釹靶材，NbF3靶材,氟化鋇靶材，BaF2靶材，氟化鈰靶材，CeF3靶材，氟化鎂靶材，MgF2靶材，氟化鑭靶材，LaF3靶材，氟化釔靶材YF3靶材，氟化鐿靶材，YbF3靶材，氟化鉺靶材，ErF3靶材等高純氟化物。

　　3.其它化合物：硫化鋅靶材，ZnS靶材，硒化鋅靶材，ZnSe靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈦酸鑭靶材，LaTiO3靶材，鈦酸鋇靶材，BaTiO3靶材，鈦酸鍶靶材，SrTiO3靶材，鈦酸鐠靶材，PrTiO3靶材，硫化鎘靶材，CdS靶材等真空鍍膜材料。

　　4.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純金靶材，Au靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鉑靶材，Pt靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,高純金靶材，Au靶材，金鍺合金靶材，AuGe靶材，金鎳合金靶材，AuNi靶材，鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鈦鋁合金靶材，TiAl靶材，銅銦鎵合金靶材，CuInGa靶材，銅銦鎵硒合金靶材，CuInGaSe靶材，鋅鋁合金靶材，ZnAl靶材，鋁硅合金靶材，AlSi靶材等金屬鍍膜材料。